中国光刻机现在多少纳米（佳能光刻机多少纳米）

1、佳能光刻机22纳米，光刻机是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。光刻机可以分钟两种，分别是模板和图样大小一致的contactaligner，曝光时模板紧贴芯片；第二是类似投影机原理的...，以下是对"中国光刻机现在多少纳米"的详细解答!

文章目录

• 1、佳能光刻机多少纳米
• 2、中国国产芯片能达到多少纳米
• 3、我国能自主生产14nm芯片了吗

佳能光刻机多少纳米

1、佳能光刻机22纳米，光刻机是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。光刻机可以分钟两种，分别是模板和图样大小一致的contactaligner，曝光时模板紧贴芯片；第二是类似投影机原理的stepper，获得比模板更小的曝光图样。

2、国内目前做光刻机的主要有上海微电子装备有限公司、中子科技集团公司第四十五研究所国电、合肥芯硕半导体有限公司、先腾光电科技、无锡影速半导体科技。其中，上海微电子装备有限公司已经量产的是90纳米，这是在中国最***的技术。其国家科技重大专项“***规模集成电路制造装备与成套工艺专项“的65nm光刻机研制，目前正在进行整机考核。对于光刻机技术来说，90纳米是一个技术台阶；45纳米是一个技术台阶；22纳米是一个技术台阶……90纳米的技术升级到65纳米不难，但是45纳米要比65纳米难多了。路要一步一步走，中国16个重大专项中的02专项提出光刻机到2020年出22纳米的。目前主流的是45纳米，而32纳米和28纳米的都需要深紫外光刻机上面改进升级。

中国国产芯片能达到多少纳米

中国国产芯片能达到90纳米。国产芯片水平只能实现90纳米。从芯片制造环节看，光刻机、蚀刻机、晶圆、光刻胶等设备和材料占比很大。其中光刻机设备，目前上海微电子是90纳米。***的KrF和ArF光刻胶更是几乎依赖进口，其中ArF光刻胶几乎为零国产。因此，我国要生产高度国产化的芯片，目前90纳米是一个分界点。这其中还不包含芯片设计使用的EDA设计软件和其它的电子化学气体材料。EDA软件被誉为“芯片设计上的明珠”，国产率不到2%。国产芯片现状及发展趋势：1、起步晚没有核心技术：国产芯片的起步很晚，几乎是国外已经有成熟技术了我们才开始搞芯片，所以在发展上一直不尽如人意。由于信号链芯片相较于电源管理芯片的设计更为复杂，我国芯片方面的发展水平跟国外还有很大差距，所以我们一直没有核心技术，非常依赖国外的芯片进口。2、大环境和美国对我国的制裁：从美国的经济战打响的那一刻起，美国就宣布了要制裁华为，这也使得我国的芯片发展之路再一次受阻，加上疫情的突然“袭击”，芯片的崛起之路更是艰难。只是国产芯片在封装企业市场目前的占有率较高，部分在***芯片器件封装领域有较大突破。3、总结：大环境导致全球缺少芯片，中国更是举步维艰，原本华为被制裁已经一大致命因素，再加上如今台海局势紧张，芯片之战更是如火如荼。我国已经在这方面出台了相关***，中国集成电路新增产线的陆续投产以及快速发展的势头，但是最主要的还是应该在不放弃自主研发的基础上再继续自主创新。

我国能自主生产14nm芯片了吗

中国现在能做14nm芯片。

14nm并不是停在实验室里面的研发，也不是投产，而是规模量产。此外90nm光刻机、5nm刻蚀机、12英寸大硅片、国产CPU、5G芯片等也实现突破。此次14nm虽然量产，但其实与国际水平还有着较大的差距，尤其是光刻机，我们还依旧依赖着国外的技术，光刻机大概率还是用ASML的。

光刻机的技术我们目前还难掌握，制程也没有国外3nm,5nm先进，但3nm虽先进，但3nm的成本过高，市场需求量也没那么大，所以就留给了我们弯道超车的机会，在我们不断加大研发和人才培养的现状下，相信未来我们定可以实现芯片自主。

手机芯片行业

在手机芯片行业，尤其是高性能芯片领域，依旧处于高通、联发科、海思、三星以及苹果五家争霸的局面，但同时具有手机终端制造能力和芯片研发能力的只有海思和三星，而高通和联发科则只提供解决方案，没有终端。

比较特殊的是苹果，其芯片自主设计但委托生产，同时完全自用。其中三星的Exynos芯片除用于自家***手机外，只有魅族采用；而多年来，海思处理器一般都应用在华为的明星机型上面。